半导体阴极发光(CL)成像:原理、成像模式与应用
阴极发光(CL)如何帮助研究半导体材料的光学性质与局部差异?本期 Delmic 原厂 Webinar 从 CL 基本原理与 SEM 光收集出发,介绍强度成像、高光谱成像及相关分析方法,并结合埋藏结构、薄膜太阳能电池等案例,展示 CL 在半导体研究中的应用。
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阴极发光(CL)如何帮助研究半导体材料的光学性质与局部差异?本期 Delmic 原厂 Webinar 从 CL 基本原理与 SEM 光收集出发,介绍强度成像、高光谱成像及相关分析方法,并结合埋藏结构、薄膜太阳能电池等案例,展示 CL 在半导体研究中的应用。
当电子束照射样品时,材料内部会发生哪些过程,最终产生阴极发光(Cathodoluminescence, CL)?本期 webinar 将从阴极发光的基本原理出发,介绍相干与非相干发光、内禀与杂质相关发光,以及局域表面等离激元共振等现象,并结合地质、半导体等材料实例,展示阴极发光能够提供的研究信息。无论您刚接触阴极发光,还是希望进一步了解其物理机制与应用场景,都可以通过本期内容建立对 CL 的基础认识。
本期 webinar 将通过实际操作演示,介绍如何使用 NenoVision LiteScope 开展测量。从仪器与样品准备、探针定位,到启动 AFM 测量及查看数据,带您了解 LiteScope 的基本操作流程。LiteScope 可集成于扫描电子显微镜(SEM)中,实现样品的原位 AFM 测量,并结合 SEM 观察与 AFM 表面形貌分析。通过本次教程,您将进一步了解测量过程中的关键步骤,以及 AFM 与 SEM 关联分析如何帮助获取样品的微纳尺度信息。